2008年中国国际光刻设备技术论坛在沪召开

　　3月16日—17日，由国家科技部高新技术发展及产业化司、上海市科委共同主办的2008年中国国际光刻设备技术论坛在上海召开。国家科技部副部长曹健林和上海市科委主任寿子琪、总工程师钮晓鸣到会致辞。来自国内外上百名从事光刻设备技术研究的专家集聚一堂，共同探讨了光刻设备技术发展趋势和面临的挑战，寻求如何缩小中国光刻设备技术与国际先进水平间的差距。

　　光刻设备是集成电路制造中的最关键设备，决定了集成电路制造的工艺水平。国际光刻设备技术一直通过不断创新快速向前发展，以满足集成电路产业发展的需要。近几年中国光刻设备市场快速增长，推动了科研院所和企业在光刻技术领域的技术研究和光刻设备的研发，成果不断涌现。这次国际论坛的召开为国内外从事光刻设备技术研究的科技人员提供了一个很好的交流平台，将进一步推动我国光刻设备技术的发展。