据韩科信部报道，韩美联合研究团队利用单原子层水平粗糙度的超平铜薄膜，在理论和实验中首次验证了铜的氧化原理。查明氧气进入途径及开发防止氧气自行氧化的薄膜技术。相关研究成果发表在《自然》上。
经1年持续使用高分辨率透射电子显微镜观测暴露在空气中的超平铜薄膜，研究人员没有观察到铜表面的自然氧化物膜和原子层面的氧化。计算氧气进入铜内部的能量变化的结果显示，当表面粗糙度在两个原子层以上时，氧气很容易渗透到铜内部，但在完全平坦的表面或单原子层时，氧气渗透需要很大能量，因此常温下不会发生氧化。同时超平薄膜表面存在的氧气具有始终维持在50％的自我调节功能。
注：本文摘自国外相关研究报道，文章内容不代表本网站观点和立场，仅供参考。
免责声明：本网转载自其它媒体的文章，目的在于弘扬科技创新精神，传递更多科技创新信息，宣传国家科技政策，展示国家科技形象，增强国家科技软实力，参与国际科技舆论竞争，提高国际科技话语权，并不代表本网赞同其观点和对其真实性负责，在此我们谨向原作者和原媒体致以崇高敬意。如果您认为本网文章及图片侵犯了您的版权，请与我们联系，我们将第一时间删除。
