据《日本经济新闻》7月12日报道，受日本政府对韩国启动半导体材料出口管制影响，在半导体行业有观点认为，韩国三星电子的“非存储器”战略将受到影响。其原因是，日本限制出口的3类材料之一的“光刻胶(Resist)”可能对三星投产最尖端装置产生影响。这关乎三星能否在今后的开发竞争中处于优势地位。
行业团体“韩国半导体产业协会”常务安基铉就日本加强出口管制的感光材料指出，“从光的波长来看，被称为EUV的最尖端曝光装置用光刻胶成为限制出口的对象”。在此基础上表示“可能对生产大规模集成电路(LSI)的三星使用EUV的生产线产生影响”。
1台EUV售价约200亿日元，操作也很复杂，但是能够使更高性能的半导体开发成为可能。目前，能够在量产线中使用EUV的被认为只有三星和全球最大的半导体代工企业台湾积体电路制造。
围绕大规模集成电路，三星在作为智能手机大脑的半导体代工生产等领域与台积电竞争，在图像传感器领域与索尼竞争。全球市场份额在2成左右，均位居第2位。三星的主营业务是保存手机等数据的存储器业务，大规模集成电路在半导体业务营业利润中所占比例还不到5%。
但是在存储器市场，去年秋季之前拉动市场增长的美国IT巨头面向服务器的投资暂歇，今年市场行情出现恶化。三星2019年4~6月的营业利润(速报值)较上年同期大幅减少56%。
受市场行情发生变化影响，三星4月份宣布，将在2030年之前投入133万亿韩元用于设备投资和研究开发。创始人家族出身的副会长李在镕提出，继存储器之后“在系统半导体市场也力争成为世界第一”的目标。
但是，在最尖端工序中使用的感光材料成为限制对象，计划刚提出就遇挫。韩国的半导体业内人士表示，“三星被戳到痛处”。三星原本计划2019年下半年开始增产使用EUV的大规模集成电路，但现在可能推迟这一计划。
一方面，不少观点认为，大规模减产或停产的“可能性较低”(韩国的分析师)，因为有声音猜测三星请求供应感光材料的日本信越化学工业和JSR提供合作，在加强出口管制的4日之前一定程度增加了库存。
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