其等离子体电源产品具有广泛的功率与频率范围,凭借出色的精度、能效和工艺稳定性,满足不同类型太阳能电池的涂层和镀膜工艺需求,倍受制造商青睐。
立足百年电源经验,通快霍廷格电子持续以‘德国品质’结合‘中国速度’,提供符合未来需求的等离子体电源解决方案,助力光伏行业的高质量发展。
通快霍廷格电子于6月13日-15日亮相SNEC PV+ 第十七届(2024)国际太阳能光伏与智慧能源(上海)大会暨展览会(以下简称“2024 SNEC 光伏展”),展示其针对光伏领域的最新等离子体电源产品、前沿解决方案和相关技术。(通快霍廷格电子展台:NH馆 B150)
通快霍廷格电子是世界领先的等离子体电源制造商,致力于开发、制造用于各种沉积和干法刻蚀工艺的等离子电源,在电源领域拥有一百多年的经验积累。在光伏领域,通快霍廷格电子主要为太阳能电池片生产中的功能性涂层和镀膜工艺提供支持。其等离子体电源产品组合具有广泛的功率与频率范围,凭借其出色的精度、能效和工艺稳定性,倍受行业头部光伏电池制造商的青睐,市场份额保持行业领先。
生产晶硅和薄膜式太阳能电池时,可通过溅射、等离子体增强化学气相沉积 (PECVD)等工艺涂镀基底材料。涂层镀膜的质量越好,太阳能电池的能量转换率就越高。通快霍廷格电子的等离子体电源,能够产生精准恒定的能量,助力客户在纳米级别的膜层上实现优异的均匀度,提高产品质量和使用寿命。此外,针对PERC、TOPCon、HJT、CdTe以及钙钛矿电池等各类太阳能电池,通快霍廷格电子均能提供具有成本效益的工艺电源支持,以及覆盖生产全过程的服务与快速响应,灵活满足客户多样化、定制化和技术创新迭代的需求。
“今年是通快霍廷格电子连续第十年亮相SNEC,我们很期待与行业伙伴见面交流。太阳能作为清洁的可再生能源,对于减缓气候变化具有重要意义,相信其市场增长潜力还将进一步释放”,通快霍廷格电子亚洲董事总经理 Dariusz Czaja(戴睿士)表示,“自从2006年成立通快霍廷格电子中国以来,我们不断提升在中国的服务能力,目前设有亚太区应用中心、维修中心、电源及匹配器生产中心,并于去年在太仓建成全球第三家生产制造基地。立足百年电源经验,通快霍廷格电子将持续以‘德国品质’结合‘中国速度’,提供符合未来需求的等离子体电源解决方案,助力光伏行业的高质量发展。”
本届“2024 SNEC 光伏展”,通快霍廷格电子将重点展示其针对光伏领域的前沿等离子体电源TruPlasma VHF、TruPlasma DC、TruPlasma Bipolar 和 TruPlasma RF产品,以及其他先进产品和相关技术。
主要展示产品包括:
双极脉冲电源 TruPlasma Bipolar 4000:领先的打弧检测及抑弧功能,提高沉积率、保障产品品质稳定;多种不同输出波形,不同频率输出,满足不同工艺需要,减少系统配置成本;高转化效率及功率因数,全水冷机身,自动平衡双靶输出,大幅降低生产成本;可调输出占空比,提供更多工艺可能性;带示波器功能及参数记录功能的先进软件。
直流脉冲等离子体电源TruPlasma DC4000 G2:市场上输出功率特性最宽的产品;Extend类型既可以做偏压,又可以做溅射电源;可调的反向电压,完美匹配工艺下彻底清理靶面积累电荷;同类产品中最好的电弧控制性能,减少因打弧引起的等离子损失;完善的系统接口,最大程度方便系统集成;完善的控制软件,最大程度方便系统及工艺调试。
高频等离子体电源TruPlasma RF和VHF:耐受高反射功率,皮实耐用;灵活的脉冲输出功能,扩大工艺窗口;先进的自动频率调整算法,确保工艺稳定;先进的电弧管理带来更稳定工艺过程;系统接口连接整个射频系统,带来更完善的工艺控制;高转换效率等其他特点,降低电源使用及研发成本。
关于通快霍廷格电子
通快霍廷格电子有限公司成立于1922年,总部设于德国弗莱堡,是世界领先的等离子体电源制造商,产品主要用于:半导体,显示器和太阳能领域,以及光学镀膜,装饰镀膜,工业镀膜,大面积玻璃镀膜等行业的等离子体应用,于1990年正式加入通快集团。
通快霍廷格电子致力于开发、制造用于各种沉积和干法刻蚀工艺的等离子电源,在电源领域拥有一百多年的经验积累,在欧洲、美洲和亚洲分别设有销售和服务子公司和分支机构。
2006年,通快霍廷格电子中国成立,至今已经深耕中国市场18年。如今,通快霍廷格在中国设有亚太区应用中心、维修中心、电源及匹配器生产中心,为客户提供所有生产过程中的优质服务。2023年,通快霍廷格中国新工厂在太仓建成开业,这是通快霍廷格继德国、波兰之后布局的全球第三家生产制造基地。
了解更多关于通快霍廷格电子的信息, 请访问:www.trumpf-huettinger.com
免责声明：本网转载自其它媒体的文章，目的在于弘扬科技创新精神，传递更多科技创新信息，宣传国家科技政策，展示国家科技形象，增强国家科技软实力，参与国际科技舆论竞争，提高国际科技话语权，并不代表本网赞同其观点和对其真实性负责，在此我们谨向原作者和原媒体致以崇高敬意。如果您认为本网文章及图片侵犯了您的版权，请与我们联系，我们将第一时间删除。
