科技是第一生产力、人才是第一资源、创新是第一动力 加快建设科技强国,实现高水平科技自立自强
氢能科技 沙蓬绿色种养产业模式 联源科技 超联科技 园区 园区 园区 园区 园区

URE-2000D型大面积紫外光刻机

   2016-03-10 科技网整理
127
核心提示:用途:在平板显示器、大尺寸光栅、码盘等刻划中具有突出的功能与用途。技术特点:◆采用3500W直流高压汞灯

 

用途:在平板显示器、大尺寸光栅、码盘等刻划中具有突出的功能与用途。 
技术特点: 
◆ 采用3500W直流高压汞灯;◆ 采用蝇眼透镜实现高均匀照明; 
◆ 实现超大面积光刻;   ◆采用CCD自动对准,自动化程度高; 
◆ 性能可靠、操作方便。 
主要技术指标: 
★ 曝光面积:430 mm×430 mm; 
★ 分辨力:3µm; 
★ 对准精度:≤±1µm ;      
★ 掩模尺寸:16英寸、17英寸、18英寸、20英寸; 
★ 照明均匀性:±10%(430 mm×430 mm范围); 
★ 掩模相对于样片运动行程:X: ±6mm;  Y: ±6mm; θ: ±6度; 
 
联系人:胡主任、唐主任 
电话:85101784、85100564

  免责声明:科技网发布的科技成果相关信息系根据科技成果信息提供方提供的信息内容进行发布。 科技网作为信息收集、发布平台,仅对科技成果相关信息内容进行发布,不对所发布科技成果的相关信息的真实性、完整性、准确性和合法性负责,不保证所发布科技成果的名称、图片、描述与科技成果的实际相符,也不对科技成果做任何担保和承诺。
 
 
更多>同类资讯
推荐图文
推荐资讯
点击排行
网站首页  |  关于我们  |  联系方式  |  使用说明  |  隐私政策  |  免责声明  |  网站地图  |   |  粤ICP备05102027号

粤公网安备 44040202001358号