用途:在平板显示器、大尺寸光栅、码盘等刻划中具有突出的功能与用途。
技术特点:
◆ 采用3500W直流高压汞灯;◆ 采用蝇眼透镜实现高均匀照明;
◆ 实现超大面积光刻; ◆采用CCD自动对准,自动化程度高;
◆ 性能可靠、操作方便。
主要技术指标:
★ 曝光面积:430 mm×430 mm;
★ 分辨力:3µm;
★ 对准精度:≤±1µm ;
★ 掩模尺寸:16英寸、17英寸、18英寸、20英寸;
★ 照明均匀性:±10%(430 mm×430 mm范围);
★ 掩模相对于样片运动行程:X: ±6mm; Y: ±6mm; θ: ±6度;
联系人:胡主任、唐主任
电话:85101784、85100564
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