双面紫外光刻机

　
技术特点： 
　　　  该机采用国内首创的CCD图像底面对准技术，单曝光头正面曝光实现双面对准的总体设计技术。采用新颖的高精度、多自由度掩模—样片精密对准工件台结构设计，掩模—样片对准过程直观，套刻对准速度快、精度高。掩模板与样片的放置采用推拉式基准平板、真空吸附式，操作方便。 
主要技术指标： 
★ 曝光面积：150mm×150mm； 
★ 分辨力：1.5µm（胶厚2 µm的正胶）； 
★ 对准精度：±2.5µm（双面），±1µm（单面）； 
★ 掩模尺寸：3 inch、4 inch、5 inch、7 inch； 
★ 样片尺寸：直径ф30mm-- ф150mm、 
　　　　　　厚度0.1mm--6mm(可扩展为15mm)； 
★ 照明均匀性： ±4%(ф100mm范围)；±7%(ф150mm范围) 
★ 掩模相对于样片运动行程：X: ±5mm;　 Y: ±5mm;　θ:±6°； 
★ 汞灯功率：350W（直流）； 
★ 曝光方式：定时（倒计时方式） 
联系人:胡主任、唐主任 
电话:85101784、85100564   免责声明：科技网发布的科技成果相关信息系根据科技成果信息提供方提供的信息内容进行发布。 科技网作为信息收集、发布平台，仅对科技成果相关信息内容进行发布，不对所发布科技成果的相关信息的真实性、完整性、准确性和合法性负责，不保证所发布科技成果的名称、图片、描述与科技成果的实际相符，也不对科技成果做任何担保和承诺。