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纳米压印光刻机

   2016-03-10 科技网整理
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核心提示:技术特征:●大面积一次压印;●自动脱模;●由PLC控制工艺过程,可实现自主定制;●可与接近接触式光刻机

技术特征:

●大面积一次压印;

●自动脱模;

●由PLC控制工艺过程,可实现自主定制;

●可与接近接触式光刻机兼容;

●友好的人机交互,触模屏操作。
 

主要技术指标:

● 分辩力: ≤ 15nm;

● 大功率紫外固化UV LED;

● 样片尺寸:4 英寸(可定制);

● 压印面积:2英寸(可定制);

● 模板尺寸:5 x 0.090英寸(可定制);

● 压印压力:0 - 25 PSI (可升级到100 PSI);

● 产量:< 5 分钟/片;

● 使用方便:Step-by-step Menu;

● 应用领域广泛。
 

   单位名称:中国科学院光电技术研究所

   单位地址:四川成都双流西航港光电大道1号

   单位网址:www.ioe.ac.cn

   联系人: 胡松、赵立新     电话/传真:028-85100564

   移动电话:13981738959      电子信箱:husong@ioe.ac.cn   免责声明:科技网发布的科技成果相关信息系根据科技成果信息提供方提供的信息内容进行发布。 科技网作为信息收集、发布平台,仅对科技成果相关信息内容进行发布,不对所发布科技成果的相关信息的真实性、完整性、准确性和合法性负责,不保证所发布科技成果的名称、图片、描述与科技成果的实际相符,也不对科技成果做任何担保和承诺。
 
 
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